CU Mask 被指沒有使用獲獎設計的「弱磁場防污染」技術，卻在早前的記者會中顯示出日內瓦獲獎證書，被質疑有造假的嫌疑。今日創科局再次舉行記者會，澄清 CU Mask 利用了該獲獎設計的改良版，所以較早前的發佈會中需要同時提及舊設計。
新設計可重用60次，是獲獎設計的改良版
香港紡織及成衣研發中心行政總裁葛儀文教授在記者會上指，之前在日內瓦得獎的舊版技術為「弱磁場防污染」設計，手洗 20 次仍能夠維持足夠的抗菌能力以重用。但今次創科局要求派發與市民的口罩需要重用 60 次，紡織及成衣研發中心認為弱磁沾水後，會變得較為不穩定，故在「弱磁場防污染」之上加以改良，將弱磁石的一層更換，換成了以氧化銅紗線與棉織成的新布，成為現時的銅芯口罩。葛儀文教授指這款布即使洗爛也會有防菌作用。
被指口罩會產生微銅粒恐怕會被人體吸入，葛儀文教授指有關微銅粒比納米大得多，人體吸收不到，而且有關過濾層並非直接接觸臉部，它再隔兩層濾芯才會接觸到人體。
▲圖為紡織及成衣研發中心展示的舊款「弱磁場防污染」設計
▲改良後的「銅芯抗疫口罩」
創科局承認敏感度不足
被指在早前發佈會展示舊設計獎項，有魚目混珠之嫌，創新及科技局常任秘書蔡淑嫻指，CU Mask 銅芯口罩裡面所採用的技術，是基於舊有的得獎設計而改良，所以在發佈時必需提及舊設計，但承認無詳細解釋是有欠對相關事情的敏感性，若早一點說明可避免大眾混亂。
▲香港紡織及成衣研發中心行政總裁葛儀文指獲得日內瓦獎項屬舊有技術，現有銅芯口罩為該技術的改良版
來源 source: http://unwire.hk
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